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      1. 微電子實(shí)踐探索論文

        時(shí)間:2020-06-14 19:10:35 電子信息工程畢業(yè)論文 我要投稿

        微電子實(shí)踐探索論文

          微電子技術(shù)是建立在以集成電路為核心的各種半導(dǎo)體器件上的技術(shù),是信息技術(shù)的基礎(chǔ)和支柱,是世紀(jì)發(fā)展最活躍和技術(shù)增長最快的高新科技。微電子產(chǎn)業(yè)作為國民經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè),是世界各國及地區(qū)經(jīng)濟(jì)科技競爭的戰(zhàn)略制高點(diǎn),也是聚集創(chuàng)新要素和投人資源最多的領(lǐng)域。

        微電子實(shí)踐探索論文

          1微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)平臺建設(shè)的重要性

          (1)課程體系建設(shè)的需求。作為承擔(dān)工程實(shí)踐教學(xué)的工程訓(xùn)練中心,我們從“學(xué)以致用”的人才培養(yǎng)理念出發(fā),形成了服務(wù)于全校學(xué)生的以能力培養(yǎng)為核心,融合知識、能力、素質(zhì)為一體,基于分層次、多模塊、重集成的實(shí)訓(xùn)教學(xué)模式。微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)的課程是機(jī)電工程綜合課程體系的主要組成部分,它由工程認(rèn)識、工程訓(xùn)練、工程綜合創(chuàng)新幾個(gè)層次的教學(xué)內(nèi)容所組成。

          (2)綜合能力培養(yǎng)的需求。工程訓(xùn)練教學(xué)的主要目標(biāo)是培養(yǎng)學(xué)生的工程實(shí)踐能力、技術(shù)應(yīng)用能力、系統(tǒng)設(shè)計(jì)能力和創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)能力,而微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)是實(shí)踐性教學(xué)的重要課程之一,在電子信息技術(shù)飛速發(fā)展的時(shí)代,微電子技術(shù)具有極強(qiáng)的滲透性和廣闊的發(fā)展前景:4,相關(guān)模塊的訓(xùn)練可提高學(xué)生分析問題解決問題的能力,培養(yǎng)學(xué)生科學(xué)研究的興趣,激發(fā)學(xué)生的創(chuàng)新意識。

          (3)校企順利接軌的需求。微電子技術(shù)相關(guān)企業(yè)對環(huán)境要求非常高,通常很難大批學(xué)生到生產(chǎn)現(xiàn)場實(shí)習(xí)參觀,且為了防止企業(yè)核心技術(shù)泄密,一般實(shí)習(xí)也是走馬觀花,或者在專業(yè)實(shí)驗(yàn)室用一些基本實(shí)驗(yàn)來代替5。工程訓(xùn)練中心以社會需求為向?qū),以?shí)際工程為背景,以工程技術(shù)為主線?7,建設(shè)微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)平臺,具有獨(dú)特的實(shí)踐教學(xué)資源優(yōu)勢,有利于校企順利接軌,為卓越工程師培養(yǎng)提供了有力保障。

          2建設(shè)目標(biāo)

          微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)平臺主要面向理工科專業(yè)學(xué)生,是一個(gè)特色鮮明的實(shí)訓(xùn)教學(xué)平臺,也是產(chǎn)學(xué)研一體化的重要體現(xiàn)。它基于半導(dǎo)體物理實(shí)驗(yàn)室,按照企業(yè)超凈車間標(biāo)準(zhǔn),構(gòu)建微電子工藝實(shí)訓(xùn)平臺,凈化等級達(dá)到萬級。實(shí)訓(xùn)平臺的定位目標(biāo)是,培養(yǎng)學(xué)生較高的了程素質(zhì)、較強(qiáng)的實(shí)驗(yàn)技能和動手實(shí)踐能力。實(shí)訓(xùn)平臺既可以滿足一般性工程認(rèn)識工程訓(xùn)練課程教學(xué)模塊的需要,又可以滿足學(xué)生完成半導(dǎo)體物理專業(yè)課程相關(guān)的實(shí)訓(xùn)項(xiàng)目和更高層次的創(chuàng)新性項(xiàng)目需要。

          3平臺構(gòu)成實(shí)訓(xùn)平臺

          主要由:緩沖區(qū)、更衣室、風(fēng)淋間、實(shí)訓(xùn)教學(xué)區(qū)、曝光區(qū)、氣體間等區(qū)域構(gòu)成,如圖1所示。和頭發(fā))污染,進(jìn)人實(shí)訓(xùn)教學(xué)區(qū)域內(nèi)的所有人員需更換防塵服,佩戴口罩和手套防塵服采用不掉毛、防靜電的纖維制成,可穿在日常衣服的外面。

          (3)風(fēng)淋間。為了減少由于人員、原料物進(jìn)出所帶來的大量塵埃粒子,經(jīng)高效過濾器過濾后的潔凈氣流由可旋轉(zhuǎn)噴嘴從各個(gè)方向噴射至人體、原料物上,有效而迅速清除塵埃粒子。

          (4)實(shí)訓(xùn)教學(xué)區(qū)。為了提高實(shí)踐教學(xué)的`效果,該區(qū)配備了多媒體教學(xué)設(shè)備可同時(shí)進(jìn)行理論教學(xué)和實(shí)踐教學(xué)。

          (5)曝光區(qū)。針對實(shí)訓(xùn)過程有特殊要求的T.藝步驟,設(shè)置了黃色光源的曝光區(qū),可進(jìn)行光刻、勻膠等。

          (6)氣體間。為保證實(shí)訓(xùn)教學(xué)K域安全,對實(shí)訓(xùn)過程中吋能使用的氣體進(jìn)行單獨(dú)存放。氣體配有氮?dú)、氧氣、氨氣、硅烷等?/p>

          4功能分區(qū)

          在器件及工藝方面,配備了氧化擴(kuò)散爐、光刻機(jī)、勻膠機(jī)、刻濁機(jī)、純水機(jī)及烘箱等設(shè)備,W]于半導(dǎo)體材料的氧化、擴(kuò)散、光刻、刻蝕等;在材料制備及參數(shù)測試方面,配備了四探針測試儀、CVD管式爐、磁控濺射沉積系統(tǒng)、真空鍍膜機(jī)、退火爐、等離子化學(xué)氣相沉積臺等設(shè)備,用于方塊電阻、電阻率、膜厚測試等。

          (1)氧化擴(kuò)散爐。半導(dǎo)體生產(chǎn)前「.序的重要工藝設(shè)備之一,用于大規(guī)模集成電路、分立器件、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等T.藝。本實(shí)訓(xùn)平臺內(nèi)采用的足水平擴(kuò)散爐,有三個(gè)丁藝爐管,控制系統(tǒng)采用的是日本島:

          (2)光刻機(jī)。又名紫外曝光機(jī),用于制作圖形工藝,將掩模版的圖形轉(zhuǎn)移到表面勻膠的硅片上,或?qū)⑵骷、電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上。

          (3)勾膠機(jī)半導(dǎo)體材料制備的基礎(chǔ)工藝設(shè)備之一,用于在半導(dǎo)體材料表面均勻涂抹膠液即在高速旋轉(zhuǎn)的基片L,滴注各類膠液,利離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂擬在基片上,可通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速及時(shí)間控制膠液的厚度。

          (4)刻蝕機(jī)刻蝕工藝的主要設(shè)備之一,用于半導(dǎo)體材料表面有選擇地把沒有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜層除去,從Ifli'在薄膜上得到和抗?jié)釀┠ど贤耆恢碌膱D形。本實(shí)訓(xùn)平臺采丨H濕法刻蝕機(jī),用稀釋的氫氟酸、液體氧化鈉進(jìn)行實(shí)踐操作。

          (5)純水機(jī)制備實(shí)驗(yàn)室純水的設(shè)備,采用多級濾芯進(jìn)行水質(zhì)凈化處理,不添加化學(xué)物質(zhì)的過濾、吸附、反滲透等物理方法本實(shí)訓(xùn)平臺的純水機(jī)制備的水質(zhì)達(dá)15兆歐,符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。(6)磁控濺射沉積系統(tǒng)。制模工藝的主要設(shè)備之一,是利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材,最終沉積在半導(dǎo)體材料表面,形成薄膜。本實(shí)訓(xùn)平臺采用磁控濺射沉積系統(tǒng)。

          (7)真空鍍膜機(jī)。制模工藝的主要設(shè)備之一,是利用加熱使靶材表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,最終沉積在半導(dǎo)體材料表面,形成薄膜。

          (8)等離子化學(xué)氣相沉積臺。制模工藝的主要設(shè)備之一,是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,在基片上沉積所期望的薄膜本實(shí)訓(xùn)平臺內(nèi)主要配備氮?dú)、氧氣、硅烷等氣體,主要制備氮化硅薄膜。

          5教學(xué)運(yùn)行

          目前,微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)課程主要涵蓋了三個(gè)層次,有步驟地、系統(tǒng)地、全面地提高學(xué)生的實(shí)踐創(chuàng)新能力。

          (丨)工程意識的培養(yǎng)。初步獲得微電子生產(chǎn)制造工藝的基礎(chǔ)知識,了解生產(chǎn)過程和最新技術(shù),初步接觸微電子專業(yè)設(shè)備及系統(tǒng)的設(shè)計(jì),制作過程和運(yùn)行方式。該層次實(shí)訓(xùn)課程主要以工程背景認(rèn)識、環(huán)境設(shè)備介紹為主,培養(yǎng)學(xué)生建立責(zé)任、質(zhì)fl、安全、創(chuàng)新、群體、社會競爭等工程意識和程素質(zhì)。

          (2)實(shí)踐能力的培養(yǎng)。主要讓學(xué)生了解整個(gè)工藝流程,做若干獨(dú)立的實(shí)訓(xùn)項(xiàng)目,熟悉相關(guān)儀器設(shè)備的操作。該層次實(shí)訓(xùn)課程主要是在教師示范的基礎(chǔ)上,學(xué)生通過觀察,模仿操作,獨(dú)立完成實(shí)訓(xùn)項(xiàng)目,培養(yǎng)學(xué)生的工程實(shí)踐技能。

          (3)綜合創(chuàng)新能力的培養(yǎng)。主要讓學(xué)生面對工程實(shí)際問題,自行確定目標(biāo)方案,設(shè)計(jì)產(chǎn)品參數(shù),整理制作結(jié)果并進(jìn)行調(diào)試分析,提交分析報(bào)告,該層次實(shí)訓(xùn)課程主要以擴(kuò)充理論教學(xué)為基礎(chǔ),使學(xué)生綜合利叫專業(yè)知識進(jìn)行自主設(shè)計(jì)實(shí)訓(xùn)方案,培養(yǎng)學(xué)生的獨(dú)立操作和團(tuán)隊(duì)協(xié)作等綜合能力。

          6共建共用,資源共享

          實(shí)訓(xùn)平臺作為實(shí)踐教學(xué)和科研創(chuàng)新場所,投入大,技術(shù)要求高,我們通過充分論證和協(xié)商建設(shè)完成。我們與相關(guān)學(xué)院開展項(xiàng)目共建、資源共用、利益共享,充分利用了教學(xué)環(huán)境,避免了儀器設(shè)備的重復(fù)購置,提高了設(shè)備的使用效率。目前,實(shí)訓(xùn)平臺一方面與學(xué)院合作開設(shè)相關(guān)專業(yè)實(shí)驗(yàn)實(shí)訓(xùn)課程?,另一方面,獨(dú)立開設(shè)微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)課程,并在進(jìn)一步完善的基礎(chǔ)上,尋求與企業(yè)的廣泛合作。

          為了充分發(fā)揮平臺的作用,我們努力建設(shè)“雙師型”的教師隊(duì)伍,確保教學(xué)質(zhì)量。同時(shí),我們按照生產(chǎn)車間的要求和標(biāo)準(zhǔn)制定了詳細(xì)的管理制度和操作規(guī)程,實(shí)行準(zhǔn)企業(yè)化管理。

          7實(shí)施效果

          通過程實(shí)踐教學(xué)創(chuàng)新模式的實(shí)踐探索,課程教學(xué)順利推進(jìn)。目前,微電子技術(shù)實(shí)訓(xùn)平臺每學(xué)期共承擔(dān)兩門課程240學(xué)時(shí)的實(shí)訓(xùn)教學(xué)任務(wù),并對學(xué)生創(chuàng)新訓(xùn)練開放。課程的滿意度達(dá)98%以上。通過實(shí)訓(xùn)課程的學(xué)習(xí),學(xué)生可以熟悉集成電路圖案轉(zhuǎn)移、光刻和硅熱氧化等技術(shù)工藝,并完成半導(dǎo)體二極管、晶體三極管和簡易太陽能電池等元器件的制作與測試,使學(xué)生身臨其境地體驗(yàn)企業(yè)生產(chǎn)氛圍,解決了企業(yè)直接承擔(dān)課程的閑難和矛盾,使理論與實(shí)踐得到充分結(jié)合,效果顯著。

          8結(jié)語

          未來建設(shè)過程中還將圍繞實(shí)訓(xùn)平臺建立多元化學(xué)習(xí)機(jī)制、實(shí)行全方位開放使用,緊密圍繞CDIO教育理念,深人研究實(shí)踐教學(xué)模式,大力培養(yǎng)適應(yīng)職業(yè)崗位需求的高技能應(yīng)用型創(chuàng)新人才。

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